| 专利名称: | 一种硅片刻蚀的方法、在硅片表面制备减反射绒面的方法和在硅片表面刻蚀特定图形的方法 |
| 专利类别: | 发明 |
| 申请号: | |
| 申请日期: | 2019.6.25 |
| 专利号: | 2019105542521 |
| 第一发明人: | 刘欢、赵雷、王文静 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
| 专利授权日期: | |
| 缴费情况: | |
| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | |
| 其它备注: | |
一种硅片刻蚀的方法、在硅片表面制备减反射绒面的方法和在硅片表面刻蚀特定图形的方法
| 专利名称: | 一种硅片刻蚀的方法、在硅片表面制备减反射绒面的方法和在硅片表面刻蚀特定图形的方法 |
| 专利类别: | 发明 |
| 申请号: | |
| 申请日期: | 2019.6.25 |
| 专利号: | 2019105542521 |
| 第一发明人: | 刘欢、赵雷、王文静 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
| 专利授权日期: | |
| 缴费情况: | |
| 实施情况: | |
| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | |
| 其它备注: | |